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隨著半導體晶圓制程技術的飛速發展，半導體制造廠持續遵循摩爾定律，不斷挑戰更先進的制程。而談到先進制程，很多芯片設計公司的第一反應都是光刻板很貴，動輒幾十萬到百萬美金級別的光刻板費用，是怎么來的，這樣的費用合理嗎？在解答這個問題之前，博研先
發布時間：2023-03-14 點擊次數：48
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博研給大家強調一下，光刻板是整個芯片的機密所在，沒有光刻板，光刻機是無法準確加工芯片的。拿走光刻板，就可以復制任何公司的芯片，就像拿走印錢的電板可以制造逼真的假錢一樣。光刻板就相當于照相的底片，光刻機的作用就是要把底片上的圖案印
發布時間：2023-03-14 點擊次數：37
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納米壓印技術具有光學曝光的快速、大面積復制的優點，同時這種技術還具有可與電子束直寫技術相比擬的納米級分辨率。納米壓印是機械的壓印過程，其分辨率不受光衍射、電子散射等限制，只取決于壓印模板的圖形以及壓印條件。另外納米壓印成本低產量高，且操作簡
發布時間：2023-03-11 點擊次數：387
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微納結構與光電器件的關系結合微納光電器件的應用需求，通過數值計算和功能模擬實驗，開發具有新型結構和功能的微光元件，提升微納結構器件的光電特性和潛在應用；在分子與原子尺度上對納米光電器件的物理化學結構、光電子傳輸與轉換的動力學過程和機理開展研
發布時間：2019-08-30 點擊次數：252
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光刻是集成電路重要的加工工藝，在整個芯片制造工藝中，幾乎每個工藝的實施，都離不開光刻的技術。光刻也是制造芯片的關鍵技術，他占芯片制造成本的35%以上。在如今的科技與社會發展中，光刻技術的增長，直接關系到大型計算機的運作等高科技領域。光刻技術
發布時間：2019-08-26 點擊次數：223
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在后光學光刻的技術中，其主要且困難的技術就是掩模制造技術，其中1：1的光刻非常困難，是妨礙技術發展的難題之一。所以說，我們認為掩模開發是對于其應用于工業發展的重要環節，也是決定成敗的關鍵。在過去的發展中，科學家對其已經得到了巨大的發展，也有
發布時間：2019-08-19 點擊次數：115
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光刻膠的技術復雜，品種較多。根據其化學反應機理和顯影原理，可分負性膠和正性膠兩類。光照后形成不可溶物質的是負性膠；反之，對某些溶劑是不可溶的，經光照后變成可溶物質的即為正性膠。圖1是正性膠的顯影工藝與負性膠顯影工藝對比結果。利用這種性能，將
發布時間：2019-08-07 點擊次數：128
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光刻（lithography）是芯片制造中的一項關鍵技術，也是微納器件制備過程中不可少的一道工藝，其目的是在晶圓（襯底）上實現芯片設計所要求的圖形。Lithography源于希臘語，其中litho，graphy的意思分別是stone，wri
發布時間：2019-07-31 點擊次數：281
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作為制造芯片的核心裝備，光刻機一直是中國的技術弱項,其技術水平嚴重制約著中國芯片技術的發展。荷蘭ASML公司的光刻機設備處于世界先進水平，日本光刻設備大廠都逐漸被邊緣化，國內更是還有很大的差距。那么中國光刻工藝與國外好的公司究然相差多少代技
發布時間：2019-07-24 點擊次數：153
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納米壓印技術是一種新型的微納加工技術。該技術通過機械轉移的手段，達到了很高的分辨率，有望在未來取代傳統光刻技術，成為微電子、材料領域的重要加工手段。納米壓印技術分為三個步驟一是模板的加工。一般使用電子束刻蝕等手段，在硅或其他襯底上加工出所需
發布時間：2019-07-22 點擊次數：111
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納米壓印技術原理基本一致，只是工藝變得更加簡單、實用和廉價。1三種典型納米壓印技術的工藝方法及其關鍵技術1熱壓印(Hotembossing)熱壓印(Hotembossing)是很早開發出的納米壓印技術，相對其他技術，它也是被研究的很
發布時間：2019-07-19 點擊次數：343
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光刻加工，在精密加工中占的比重雖然不大，但由于其重要性以及不可替代性，越來越受到重視，下面來簡單介紹一下光刻加工?！ 」饪碳庸な且环N主要用于制作集成電路、微型機械等的加工方法。對于高精度微細線條所構
發布時間：2019-07-18 點擊次數：272
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納米壓印技術是目前納米溝道加工的主要技術。傳統的光刻技術主要是利用電子和光子改變光刻膠的物理化學性質，進而得到相應的納米圖形。而納米壓印技術則可以在不使用電子和光子的前提下，直接利用物理學機理機械地在光刻膠上構造納米尺寸圖形。正是由于這
發布時間：2019-07-09 點擊次數：218
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光刻是集成電路重要的加工工藝，他的作用，如同金工車間中車床的作用。在整個芯片制造工藝中，幾乎每個工藝的實施，都離不開光刻的技術。光刻也是制造芯片的關鍵技術，他占芯片制造成本的35%以上。在如今的科技與社會發展中，光刻技術的增長，直接關系到大
發布時間：2019-07-04 點擊次數：88
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1引言由于經濟原因促使半導體業朝著不斷縮小特征尺寸方向發展，隨之而來的技術進步導致了設備的成本以指數增長。由于成本的增長，人們對納米壓印光刻這一低成本圖形轉移技術的關注越來越多。通過避免使用昂貴的光源和投影光學系統，納米壓印光
發布時間：2019-01-25 點擊次數：649
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由大量等寬等間距的平行狹縫構成的光學器件稱為光柵(grating)。一般常用的光柵是在玻璃片上刻出大量平行刻痕制成，刻痕為不透光部分，兩刻痕之間的光滑部分可以透光，相當于一狹縫。精制的光柵，在1cm寬度內刻有幾千條乃至上萬條刻痕。這種利用透
發布時間：2018-09-27 點擊次數：172
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光刻加工光刻膠的主要技術參數有哪些？1．靈敏度（Sensitivity）靈敏度是衡量光刻膠曝光速度的指標。光刻膠的靈敏度越高，所需的曝光劑量越小。單位：毫焦/平方厘米或mJ/cm2。2．分辨率（resolution）區別硅片表面相鄰圖形特征
發布時間：2018-09-27 點擊次數：954
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光刻膠:用化學反應進行圖像轉移的媒介光刻膠具有光化學敏感性，其經過曝光、顯影、刻蝕等工藝，可以將設計好的微細圖形從掩膜版轉移到待加工基片。光刻膠產業鏈光刻膠和集成電路制造產業鏈的前端的即為光刻膠專用化學品，生產而得的不同類型的光刻膠被應用于
發布時間：2016-07-27 點擊次數：158
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我國半導體之殤--光刻機與光刻膠光刻膠是由感光樹脂、增感劑和溶劑等主要成分組成的對光敏感的混合液體。在紫外光、深紫外光、電子束、離子束等光照或輻射下，進行光化學反應，經曝光、顯影等過程，將所需要的微細圖形從掩模版轉移至待加工的襯底上，然后進
發布時間：2016-07-27 點擊次數：183
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